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        ZnO 壓敏電阻的微觀結構分析發現,形成的四個主要 成分是 ZnO、尖晶石、焦綠石和一些富 Bi 相(圖?。常?。圖 中也指明了組分存在的部位,安防系統壓敏電阻,還存在一些用現有技術尚不 易檢測出來的其它次要相。 ZnO 壓敏電阻的典型晶粒尺寸在15和20μm 之間, 并且也總是伴有雙晶。SiO2的存在抑制晶粒生長,而?。裕椋希病?和?。拢幔稀t加速晶粒長大。尖晶石和焦綠石相對晶粒長大有 抑制作用。焦綠石相在低溫時起作用,而尖晶石相在高溫 時有利。當用鹽酸浸蝕晶粒時,中間相呈現出在電性上絕 緣的三維網絡。 燒結形成的?。冢睿稀【ЯJ恰。冢睿稀好綦娮璧幕緲嫵蓡渭儭。冢睿稀∈蔷哂芯€性?。桑铡√匦缘姆腔瘜W計量?。睢⌒桶雽?體。進入  ZnO  中的各種添加物使其具有非線性。這些氧 化物中主要是  Bi 2O3。這些氧化物的引入,在晶粒和晶粒 邊界處形成原子缺陷,施主或類施主缺陷支配著耗盡層, 而受主和類受主缺陷支配著晶粒邊界狀態。相關的缺陷類 型是鋅空位(V Zn'、V Zn'')、氧空位(V o 、V o )、填隙鋅

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        氧化鋅壓敏電阻的缺陷:

        ZnO壓敏電阻器中的缺陷有正一價和正二價的Zni和Vo,負一價和負二價的

        VZn ,正一價的DZn。VZn主要在晶界處,VZn為受主態,壓敏電阻,使晶粒表面形成一電子耗盡層而產生勢壘,約0.7eV。Zni容易遷移為亞穩態,是老化產生的根源所在。DZn可降低晶粒體的電阻,電動機保護壓敏電阻,提高通流容量。Vo在氧不足的ZnO-x中量很少,主要存在于晶界中。高溫時原子運動加劇,在晶界中形成大量的VZn和Vo,但Vo在冷卻過程中容易從空氣中吸收氧而消失。

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        壓敏電阻的電流為1mA時所對應的電壓作為I隨U迅速上升的電壓大小的標準,該電壓用U1mA表示,稱為壓敏電壓。壓敏電壓是ZnO壓敏電阻器伏安曲線中預擊穿區和擊穿區轉折點的一個參數,一般情況下是一般情況下是1mA(Φ5 產品為0.1mA)直流電流通過時,產品的兩端的電壓值,其偏差為±0.1%。

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